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對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質(zhì)當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,IKN研發(fā)出新型設備-研磨分散機,應對納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用IKN研磨分散機進行分散處理,*。
CMD2000系列研磨分散設備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
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級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
納米分散機的特點
1 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。
2 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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