日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型
特征
節(jié)省空間的桌面理想之選
高速處理時(shí)間
僅 AC100V 電源
配備加工時(shí)間設(shè)定定時(shí)器
門聯(lián)鎖設(shè)備
配備臭氧消減處理裝置
不使用汞燈
內(nèi)置高度調(diào)節(jié)臺(tái)
通過簡單的基本設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高性能。
使用EXIMA UV光源進(jìn)行光表面處理，可以對(duì)薄膜材料等易受熱的物體進(jìn)行低溫表面處理，因?yàn)楸徽丈湮矬w的溫度由于其特性而不易升高。光源。此外，光化學(xué)反應(yīng)具有不易損壞工件的特點(diǎn)。
應(yīng)用示例
潤濕性、親水性、親和性提高
提高接合面的附著力
表面改性
有機(jī)物分解清洗
基本規(guī)格
| 產(chǎn)品名稱 | 準(zhǔn)分子紫外光處理設(shè)備桌面實(shí)驗(yàn)室規(guī)格 |
| 型號(hào) | E172-70 |
| 波長 | 172納米 |
| 光源 | XeEscimer 燈 Φ18 x 120 mm |
| 初始照度 | 20mW/cm2以上 |
| 連續(xù)照明操作 | 10分鐘內(nèi)（由于輕巧緊湊的風(fēng)冷設(shè)計(jì)） |
| 外形尺寸 | 195 (W) x 380 (D) x 480 (H) 毫米 * |
| 效用 | 電源 AC100V 50 / 60Hz 2A |
| 定期更換零件 | 廢氣臭氧分解裝置建議使用 1 年或酌情更換 |
| 定期檢查 | 高壓電源、光源等 5年或視情況而定 |
日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型
實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)分子 172nm 紫外光源
型號(hào)：E500-172-110
以簡單的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)低成本和高性能。可以立即打開和關(guān)閉。風(fēng)冷準(zhǔn)分子燈是研究和開發(fā)的理想選擇。準(zhǔn)分子紫外燈的光學(xué)表面處理由于準(zhǔn)分子燈的特性，工件的溫度不易升高，因此對(duì)薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行精確的低溫表面處理非常出色。
基本規(guī)格
| 產(chǎn)品名稱 | 實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)分子 172nm 光源 |
| 型號(hào) | E500-172-110 |
| 波長 | 172納米 |
| 光源 | Xe準(zhǔn)分子燈 Φ18 x 120 mm |
| 初始照度 | 20mW/cm2以上 |
| 連續(xù)照明操作 | 10分鐘內(nèi)（由于輕巧緊湊的風(fēng)冷設(shè)計(jì)） |
| 外形尺寸 | 燈箱 W 200 x H 45 x D 80 mm 電源 W 250 x H 133 x D 200 mm |
| 效用 | 電源 AC100V 50 / 60Hz 2A，臭氧解毒局部排氣 |
| 定期更換零件 | 廢氣臭氧分解裝置建議使用 1 年或酌情更換 |
| 定期檢查 | 高壓電源、光源等 5年或視情況而定 |
