PlasmaPro 80 ICP 英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機
PlasmaPro 80 ICP是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質量。直開式設計允許快速的進行晶圓裝卸，是科學研究、原型設計和少量生產的理想選擇。 該設備通過優(yōu)化了的電極冷卻技術和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結果。
。直開式設計允許快速裝卸晶圓
。出色的刻蝕深度和刻蝕速率控制
。出色的晶圓溫度均勻性
。晶圓可達200mm
。購置成本低
。符合半導體行業(yè) S2 / S8標準
應用:
· III-V族材料刻蝕工藝
· 硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝
· 二氧化硅和石英刻蝕
· 用于失效分析的干法刻蝕解剖工藝，可處理封裝好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圓
· 用于高亮度LED生產的硬掩模的沉積和刻蝕
特點:
· 小型系統(tǒng) —— 易于安置
· 優(yōu)化的電極冷卻系統(tǒng) —— 襯底溫度控制
· 高導通的徑向（軸對稱）抽氣結構 —— 確保能提升工藝均勻性和速率
· 增加<500毫秒的數據記錄功能 —— 可追溯腔室和工藝條件的歷史記錄
· 近距離耦合渦輪泵 —— 抽速高迅速達到所要求的低真空度
· 關鍵部件容易觸及 ——系統(tǒng)維護變得直接簡單
· X20控制系統(tǒng)——大幅提高了數據信息處理能力， 并且可以實現(xiàn)更快更可重復的匹配
· 通過前端軟件進行設備故障診斷 —— 故障診斷速度快
· 用干涉法進行激光終點監(jiān)測 —— 在透明材料的反射面上測量刻蝕深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法來確定非透明材料 (如金屬) 的邊界
· 用發(fā)射光譜（OES）實現(xiàn)較大樣品或批量工藝的終點監(jiān)測 —— 監(jiān)測刻蝕副產物或反應氣體的消耗量的變化，以及用于腔室清洗的終點監(jiān)測
