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FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡

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公司名稱上海禹重實(shí)業(yè)有限公司
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型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2023/1/21 8:36:26
訪問(wèn)次數(shù)276

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

禹重科技(UZONGLAB)是一家立足華東，以拓展全國(guó)市場(chǎng)為主的進(jìn)口儀器貿(mào)易和技術(shù)咨詢服務(wù)公司，下設(shè)三個(gè)事業(yè)部和一個(gè)中心，即分析儀器事業(yè)部、標(biāo)耗備件事業(yè)部、大客戶項(xiàng)目部、以及中禹聯(lián)重檢測(cè)技術(shù)中心。　　作為Thermo Science(賽默飛)、ZEISS(蔡司)、 Zwick(茲維克)和INNOVATEST(軼諾)品牌的核心代理商，禹重科技?(UZONGLAB)將*的分析測(cè)試前沿技術(shù)和產(chǎn)品帶給國(guó)內(nèi)客戶，為高校、科研院所、政府機(jī)構(gòu)以及材質(zhì)工業(yè)過(guò)程控制等行業(yè)，提供金屬和非金屬材料的成分分析儀器、表面分析儀器、硬度和力學(xué)設(shè)備以及樣品前處理平臺(tái)等儀器產(chǎn)品，同時(shí)提供標(biāo)準(zhǔn)樣品和小型試驗(yàn)設(shè)備銷售、材料測(cè)試咨詢等綜合服務(wù)。　　從冶金鑄造和功能材料的開(kāi)發(fā)；船舶建造和石化裝備升級(jí)換代；到汽車零部件和電子電工的可靠性測(cè)試；環(huán)境檢測(cè)和工業(yè)品品質(zhì)的不斷提升，禹重科技?(UZONGLAB)在這些方面都發(fā)揮著實(shí)實(shí)在在的作用。　　我們具備豐富的經(jīng)驗(yàn)，充分了解每個(gè)客戶的核心需求，并致力于提供Z佳的解決方案。為客戶提供更專業(yè)、更安全、更便捷的產(chǎn)品和服務(wù)是我們的*目標(biāo)。

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FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡（STEM）和 TEM 成像功能與的能量色散 X 射線光譜儀（EDS）信號(hào)檢測(cè)功能及基于成分測(cè)繪的三維化學(xué)表征功能。Talos F200X 可在所有維度（1D-4D）下實(shí)現(xiàn)Z快速、Z精確的 EDS 分析，以及且支持快速導(dǎo)航的動(dòng)態(tài)顯微鏡 HRTEM 成像。

FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡產(chǎn)品信息

FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (STEM) 和 TEM 成像功能與行業(yè)的能量色散 X 射線光譜儀 (EDS) 信號(hào)檢測(cè)功能及基于成分測(cè)繪的三維化學(xué)表征功能。Talos F200X 可在所有維度 (1D-4D) 下實(shí)現(xiàn)zui快速、zui精確的 EDS 分析，以及且支持快速導(dǎo)航的動(dòng)態(tài)顯微鏡 HRTEM 成像。
FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡可以實(shí)現(xiàn)zui快速、zui準(zhǔn)確且量化的多維納米材料表征。 FEI Talos F200S 200 kV STEM 融合了快速、多通道、高分辨率 STEM 成像和精確成分分析，可以支持各種動(dòng)態(tài)顯微鏡應(yīng)用。FEI Talos 的創(chuàng)新功能可提高通量、精度與易用性，非常適于學(xué)院、政府和工業(yè)研究環(huán)境中的高級(jí)研究與分析。
是FEI公司新一代場(chǎng)發(fā)射低溫透射電鏡，配有場(chǎng)發(fā)射電子槍；樣品臺(tái)可傾轉(zhuǎn)zui大角度70度；恒功率模式的物鏡保證成像的高穩(wěn)定性；點(diǎn)分辨率可達(dá)0.3nm，信息分辨極限可達(dá)0.15nm。
基本參數(shù)
Talos F200S
總束電流：>150nA
探針電流：1nA@1nm探針（200 kV）
EDS系統(tǒng)：2 SDD無(wú)窗設(shè)計(jì)，shutter保護(hù)
能量分辨率：≤136 eV，對(duì)Mn-Kalpha和10kcps（輸出）
快速EDS：像素駐留時(shí)間低至10 us
Talos F200X
明場(chǎng)X-FEG：1.8×109 A/cm2 srad（@200kV）
總束電流：>50nA
探針電流：2nA@1nm探針（200 kV）；0.4 nA@0.31nm探針
EDS系統(tǒng)：2 SDD無(wú)窗設(shè)計(jì)，shutter保護(hù)
能量分辨率：≤136 eV，對(duì)Mn-Kalpha和10kcps（輸出）
快速EDS：像素駐留時(shí)間低至10 us 除了這些基本特性外，本中心的Talos還裝備：
1 Ceta 4K*4K 相機(jī)；
2 用于STEM模式的環(huán)形暗場(chǎng)探頭（HAADF）以及BF/DF探頭；
3 Gatan 626冷凍傳輸樣品桿，單傾樣品桿以及三維重構(gòu)樣品桿；
4 單顆粒技術(shù)自動(dòng)化數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)EPU和電子斷層掃描技術(shù)自動(dòng)化數(shù)據(jù)收集軟件Xplore3D。
Talos可以滿足冷凍單顆粒技術(shù)、冷凍電子斷層掃描技術(shù)、STEM電子斷層掃描技術(shù)的數(shù)據(jù)收集需求，如：
1. 進(jìn)行液氮溫度的冷凍樣品數(shù)據(jù)收集；
2. 可進(jìn)行單顆粒樣品數(shù)據(jù)收集；