Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環(huán)境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復(fù)性。與一般環(huán)境或干燥N2條件相比，高真空測量具有準確度高、可重復(fù)性好及針尖和樣本損傷低等優(yōu)點，因此用戶可測量各種故障分析應(yīng)用中許多信號響應(yīng)，例如掃描擴散電阻顯微術(shù)(SSRM)的摻雜物濃度。Park NX-Hivac使得真空環(huán)境中高精確度和高分辨率測量的材料科學(xué)研究遠離氧氣與其它藥劑的影響，在高真空條件下執(zhí)行掃描擴散電阻顯微鏡測量可減少所需的針尖-樣本相互作用力，從而大幅度降低對樣本和針尖的損傷。
如此可延長各針尖的使用壽命，使掃描更加低成本和便捷，并通過提高空間分辨率和信噪比得到更為精確的結(jié)果。因此，利用NX-Hivac進行的高真空掃描擴散電阻顯微術(shù)測量可謂是故障分析工程師增加其吞吐量、減少成本和提高準確性的明智選擇。
基本技術(shù)參數(shù)
掃描儀 | 光學(xué)顯微鏡 | 樣品臺 |
XY掃描儀：50 μm x 50 μm （100 μm x 100 μm可選） | 物鏡：10x 5M pixel CCD | XY平臺行程：22 mm x 22mm 樣品大?。?/span>50mm x 50mm，厚度20 mm |
物理信息 | 軟件 | 高真空 |
真空室：300mm x 420mm x 320mm | SmartScan：Park AFM操作軟件 XEI: AFM數(shù)據(jù)分析軟件 Hiva Manager:自動真空控制軟件 | 真空等級：小于 1 x 10-5 torr 泵速：5 min內(nèi)達到10-5 torr |
主要功能
用于失效分析應(yīng)用的高真空掃描
Park NX-Hivac允許故障分析工程師通過高真空SSRM提高的靈敏和分辨率。高真空掃描能提供比大氣或干燥的N2條件下更高的精度，更好的可重復(fù)性，還能減少針尖和樣品損傷 ，用戶從而可以在失效分析應(yīng)用中測量更廣闊范圍的涂料濃度和信號強度，
高級的自動化特征
用戶所需的輸入操作簡單，用戶可以更快地掃描從而提高實驗室的實驗成果。
應(yīng)用
在二維金屬材料電性能方面的研究
C-AFM in Air vs High Vacuum MoS2
在空氣和真空下MoS2 的AFM 圖
相關(guān)文獻
Jonathan Ludwig et al，”Effects of buried grain boundaries in multilayer MoS2”Journal：Nanotechnology, Volume 30, Number 28.
