專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國(guó)CEOS GmbH公司(總經(jīng)理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級(jí)納米技術(shù)研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時(shí)，探針電流提高了10倍。
最近，該顯微鏡還配備了高分辨率鏡頭和冷場(chǎng)發(fā)射電子槍，進(jìn)一步提高了圖像分辨率和電子束能量分辨率。同時(shí)，該型號(hào)系列還增加了一款不帶球差校正的主機(jī)配置，可以以后加配球差校正進(jìn)行升級(jí)。
特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)
高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像
HAADF-STEM圖像0.136 nm，F(xiàn)FT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)
HAADF-STEM圖像0.144 nm(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭)
明場(chǎng)掃描透射電子顯微鏡圖像0.204 nm(w/o球差校正儀)
高速，高靈敏度能譜分析：探針電流×10倍
元素面分布更迅速及時(shí)
低濃度元素檢測(cè)
操作簡(jiǎn)化
自動(dòng)圖像對(duì)中功能
從樣品制備到觀察分析實(shí)現(xiàn)無(wú)縫連接
樣品桿與日立聚焦離子束系統(tǒng)兼容
配有各種選購(gòu)件可執(zhí)行各種評(píng)估和分析操作
同時(shí)獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*圖像。
低劑量功能*(使樣品的損傷和污染程度降至)
高精度放大校準(zhǔn)和測(cè)量*
實(shí)時(shí)衍射單元*(同時(shí)觀察暗場(chǎng)-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案)
采用三維微型柱旋轉(zhuǎn)樣品桿(360度旋轉(zhuǎn))*，具有自動(dòng)傾斜圖像獲取功能。
ELV-3000即時(shí)元素面分布系統(tǒng)*(同時(shí)獲取暗場(chǎng)-掃描透射電子顯微鏡圖像)
