簡介

scia Coat 500雙離子束濺射鍍膜機，用于精密光學(xué)的大尺寸基板的高均勻性鍍膜，菜單控制的沉積過程可保證鍍膜質(zhì)量的重復(fù)性。最多可以允許4種擋板，可以提高均勻性，也可以沉積設(shè)計的梯度薄膜。

常規(guī)屬性

- 主離子源用于濺射靶材到樣品基底上，沉積成膜；次離子源用于樣品表面離子束轟擊清洗或輔助鍍膜。

- 可沉積介質(zhì)和金屬膜，用于光學(xué)濾波器、X射線反射鏡、同步輻射鏡等

- 可沉積漸變膜（比如Gobel 鏡）

- 具有在線基底預(yù)處理 （刻蝕、清洗、平滑化）功能

- 通過基板旋轉(zhuǎn)與線性運動的疊加，可以獲得的沉積均勻性

- 轉(zhuǎn)鼓靶架上最多可有6個水冷靶材料，用于在線更換

- 使用石英晶振和/或光學(xué)厚度監(jiān)視器（OTM），菜單式控制多層膜沉積

- 通過線性軸運動控制系統(tǒng)，可以實現(xiàn)梯度薄膜沉積或表面誤差校正

- 可選襯底加熱至250°C以優(yōu)化薄膜應(yīng)力

系統(tǒng)性能