一、40t/h大型工業(yè)水處理設(shè)備的概述
綠健水處理公司生產(chǎn)的工業(yè)水處理設(shè)備種類比較多,主要有反滲透設(shè)備、去離子水設(shè)備、超純水設(shè)備、高純水制取設(shè)備、軟化水設(shè)備、超濾設(shè)備、中水回用設(shè)備、離子交換水處理設(shè)備等,該設(shè)備是工業(yè)水處理設(shè)備中的大型反滲透設(shè)備,產(chǎn)水量每小時40噸,主要用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取裝置。可以用于:光電行業(yè)用水制取、精細化工行業(yè)用水制取、電鍍涂裝行業(yè)用水制取、電子半導體行業(yè)超純水制取、精密機械行業(yè)用水制取、電廠鍋爐行業(yè)用水制取、代替各類蒸餾水及超純水供水等。
二、40t/h大型工業(yè)水處理設(shè)備的出水標準
40t/h大型工業(yè)水處理設(shè)備根據(jù)各行業(yè)工藝用水要求不同和原水水質(zhì)不同,可定制不同的工業(yè)反滲透設(shè)備達到用水標準,根據(jù)實際用水要求配置不同的工藝流程,各行業(yè)的用水標準不同,如電阻分為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等標準,電導率從20uS/cm、10us/cm、5us/cm、2us/cm、1us/cm、0.2us/cm、0.5us/cm、0.1uS/cm不等,因此需要針對不同標準配置不同的預處理系統(tǒng)、單級雙級反滲透工藝,后處理系統(tǒng)(EDI電除鹽系統(tǒng)、拋光混床系統(tǒng)、紫外線殺菌、臭氧發(fā)生器、二氧化氯等)。
三、40t/h大型工業(yè)水處理設(shè)備的技術(shù)特點:
1、大型水處理設(shè)備是采用反滲透膜在室溫條件下,采用無相變的物理方法將含鹽水進行脫鹽、除鹽。目前,復合膜元件的脫鹽率可達到99.5%以上,并可同時去除水中的膠體、有機物、細菌、病毒等。
2、采用美國進口海德能反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長,運行成本低廉;
3、采用電動閥配合PLC全自動預處理系統(tǒng),實現(xiàn)無人化操作;
4、采用進口格蘭富增壓泵,效率高低噪音,穩(wěn)定可靠;
5、在線水質(zhì)監(jiān)測控制,實時監(jiān)測水質(zhì)變化,保障水質(zhì)安全;
6、全自動電控程序,還可選配觸摸屏操作,使用方便;
7、切合當?shù)厮|(zhì)的個性化設(shè)計,滿足需求。
8、反滲透裝置自動化程度高,運行維護和設(shè)備維護工作量很少。
9、水的處理僅依靠水的壓力作為推動力,其能耗在許多處理工藝中比較低。
10、不用大量的化學藥劑和酸、堿再生處理,無化學費液排放,無環(huán)境污染。
11、反滲透可以連續(xù)運行制水,系統(tǒng)簡單,操作方便,產(chǎn)品水質(zhì)穩(wěn)定。
12、設(shè)備占地面積小,需要的空間也小。
四、40t/h大型工業(yè)水處理設(shè)備的應用場合
1、電子工業(yè)用超純水、純水:半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;超純材料和超純化學試劑、超純化工材料;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏;高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn);半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;實驗室和中試車間;光電產(chǎn)品;其他高科技精微產(chǎn)品。
2、精密機械行業(yè)用純水機:汽車零部件的生產(chǎn)加工;飛機、汽車發(fā)動機葉片的生產(chǎn)加工;打印機、傳真機激光頭的生產(chǎn)加工;光驅(qū)、硬盤的讀寫磁頭及盤片的生產(chǎn)加工;其他對產(chǎn)品有要求的精密機械產(chǎn)品的生產(chǎn)加工。
3、電廠鍋爐行業(yè)用除鹽水:符合國家或行業(yè)鍋爐給水標準(GB1576-79、DL/T561-95),適合中、高壓鍋爐補水水質(zhì)要求。電阻率在0.5-10MΩ.cm的(超)純水。
4、精細化工行業(yè)用水:化妝品、護膚品等去離子水,化工材料的生產(chǎn)和加工過程所用的溶劑及清洗過程所需的工業(yè)純水;電子半導體、集成電路板上用到的化工材料;石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純;高純墨水、傳真打印機中的噴墨、納米墨水DI去離子水。
5、電鍍涂裝行業(yè)用純水:電鍍涂裝行業(yè)中,為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力,電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水,另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗,此外超濾和反滲透還可以用來回收漂洗液中的貴重金屬離子,滲透過來的水再返回作鍍件清洗之用
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