Leica EM ACE900 冷凍鍍膜技術(shù)
Leica EM ACE900冷凍斷裂系統(tǒng)是一款制樣系統(tǒng)。在一臺儀器中對樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。通過旋轉(zhuǎn)冷凍式載臺，利用電子束進行高分辨率碳/金屬復(fù)合鍍膜，適用于任何TEM和SEM分析，可提供靈活的投影選擇。 通過用于樣品和刀具轉(zhuǎn)移的真空鎖以及控制每個電子束源的閘閥，儀器可始終保持真空狀態(tài)，確?？焖?、清潔的工作條件。
Leica EM ACE900冷凍斷裂系統(tǒng)
玻璃化冷凍結(jié)構(gòu)對環(huán)境影響極其敏感，需要對其加以保護以免形成假象。在條件下制備用于詳細圖像評估的樣品：
- 在樣品周圍采取冷屏蔽措施，避免水分子在樣品上凍結(jié)
- 在整個過程中精確控制溫度
- 清潔的刀具 – 每次切片均使用干凈的刀片，避免污染
- 及時、迅速的電子束鍍膜，捕獲詳細的表面信息
- 在受保護的真空狀態(tài)下轉(zhuǎn)移到其他分析系統(tǒng)
所有這些要求均可在一臺儀器中實現(xiàn) - Leica EM ACE900！
為什么要進行冷凍斷裂和冷凍蝕刻？
- 冷凍斷裂是一種將冷凍標本劈裂以露出其內(nèi)部結(jié)構(gòu)的技術(shù)。
- 冷凍蝕刻是指讓樣品表面的冰在真空中升華，以便露出原本無法觀察到的斷裂面細節(jié)。
- 它們均屬敏感的技術(shù)，可保留微小的細節(jié)以用于TEM和冷凍SEM分析。
為什么選擇Leica EM ACE900？
Leica EM ACE900是一款制樣系統(tǒng)。
在一臺儀器中對樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。
通過旋轉(zhuǎn)冷凍式載臺，利用電子束進行高分辨率碳/金屬復(fù)合鍍膜，適用于任何TEM和SEM分析，可提供靈活的投影選擇。
通過用于樣品和刀具轉(zhuǎn)移的真空鎖以及控制每個電子束源的閘閥，儀器可始終保持真空狀態(tài)，確保快速、清潔的工作條件。
本儀器定會成為您重要的EM樣品處理工具。
研究潛力無限
Leica EM ACE900冷凍斷裂系統(tǒng)采用重新設(shè)計的冷卻概念、切片機、屏蔽、電子束、真空鎖，并且還可連接Leica EM VCT500，以便在整個冷凍SEM工作流程中對樣品加以保護。
內(nèi)置的現(xiàn)代用戶界面讓操作不再有任何障礙。
開創(chuàng)新視野
- 生物 : 細胞膜、細菌、細胞器、蛋白質(zhì)
- 行業(yè) : 化妝品、食品、藥物
- 材料研究 : 乳膠、高分子聚合物、邊界層、納米結(jié)構(gòu)、液晶
對樣品進行冷凍斷裂以用于TEM（復(fù)型技術(shù)）或冷凍SEM（通過Leica EM VCT500轉(zhuǎn)移）。
高再現(xiàn)性、妥善的標本保護
自動與手動操作（斷裂）的*結(jié)合讓制備具有*的再現(xiàn)性和靈活性。
所有相關(guān)參數(shù)都會被記錄。
大型冷凍屏蔽內(nèi)壁、樣品交換艙、優(yōu)化的樣品轉(zhuǎn)移和冷凍切片機將確保為樣品帶來*的保護。
操作無障礙 方便直觀的用戶界面。
Leica EM ACE900讓冷凍斷裂和冷凍蝕刻技術(shù)成為您實驗室的一項例行程序。
連接性
將Leica EM VCT500真空冷凍轉(zhuǎn)移系統(tǒng)與Leica EM ACE900系統(tǒng)對接即可！
Leica EM VCT500底座可直接與Leica EM ACE900相連。
通過Leica EM VCT500穿梭工具，標本可在*條件下與儀器實現(xiàn)來回轉(zhuǎn)移，以便在冷凍SEM中進行終檢查。
僅僅數(shù)小時即可獲得高分辨率的圖像。
快速操作
電子束源、樣品架和刀具都有相應(yīng)的真空鎖，以便快速處理樣品
無需花時間等待達到真空狀態(tài)。
環(huán)境責(zé)任
我們的電子顯微鏡樣品制備系統(tǒng)不僅符合高的技術(shù)和人體工學(xué)要求，而且還非常注重減少環(huán)境影響。
這對Leica EM ACE900意味著什么
- 冷卻過程中的LN2消耗量相比之前的儀器降低了約87%。
- 每小時冷凍工作的LN2消耗量相比之前的儀器下降了約58%。
- 達到操作要求的冷卻時間相比之前的儀器縮短了約33%。
- 更小巧的儀器外形讓包裝、物流與裝運成本得以降低。
- 已實施環(huán)境管理體系DIN EN ISO 14001。
我們采取負責(zé)任的行動并于2015年通過了環(huán)境管理的DIN EN ISO 14001認證
技術(shù)參數(shù)
電源電壓 | 100/115/230 V, 50/60 Hz |
大電流 | 10 A |
怠速時的功耗（泵送和冷卻時） | 600 W |
涂層過程中的功耗 | 1 KW |
LN2
LN2消耗量（冷卻時） | at -150 °C ~ 2.5 l/h |
LN2冷卻下來 | - 2 l |
LN2冷卻杜瓦容量 | 25 l, 35l |
杜瓦泵，兩條線 | 可單獨控制 |
LN2軟管 | 絕緣，長度：90厘米 |
尺寸及重量
寬度 | 深度 | 高度 | 凈重 | |
主機 | 705 mm | 710 mm | 640 mm | 約135公斤 |
帶顯微鏡 | 705 mm | 900 mm | 640 mm |
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帶VCT500接口 | 705 mm | 710 mm | 640 mm |
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帶VCT500真空傳輸艙 | 1450 mm | 710 mm | 640 mm |
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儀器臺 | 820 mm | 780 mm | 750 mm |
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LN2杜瓦瓶 | Ø400 mm |
| 800 mm | 12 kg |
LN2泵 | Ø180 mm |
| 720 mm |
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氮氣管尺寸：外徑6毫米，內(nèi)徑4毫米 | ||||
