雙恒電位儀報(bào)價(jià)雙恒電位儀報(bào)價(jià) 型號(hào):NH88-CS2350M庫(kù)號(hào)：M361874
雙恒電位儀是基于常規(guī)單通道CS350M 型電化學(xué)工作站拓展的產(chǎn)品，可以實(shí)現(xiàn)2個(gè)通道同|步測(cè)試，搭配旋轉(zhuǎn)環(huán)盤(pán)電極（RRDE）使用，各通道獨(dú)|立，可以實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)、不同電分析方法的獨(dú)|立使用，軟件友好，可以實(shí)現(xiàn)組合編程功能。具體應(yīng)用于：
1）電合成、電沉積（電鍍）、陽(yáng)極氧化等反應(yīng)機(jī)理研究；2）電分析化學(xué)研究、電化學(xué)傳感器的性能研究；3）能源材料、功能材料以及光電材料的性能研究；4）金屬材料在不同介質(zhì)（水/混凝土/土壤等）中的腐蝕研究與耐蝕性評(píng)價(jià)；5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率的快|速|(zhì)評(píng)價(jià)。
1、硬件參數(shù)指標(biāo)
2，3，4電極
雙恒電位儀，雙通道獨(dú)|立使用
電位儀電位控制范圍：±10V
恒電流控制范圍：±1.0A
電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV
電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)
電位分辨率：10V(>100Hz), 3V(<10Hz)
電流靈敏度：<1pA
電位上升時(shí)間：<1S(<10mA),<10S(<2A)
參比電極輸入阻抗：1012||20pF
電流量程：2A～2nA, 共10檔
|大輸出電流：1A，槽壓：±21V
CV 和LSV掃描速度：0.001mV～10000V/s
CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s
電流掃描增量：1mA @1A/mS
電位掃描時(shí)電位增量：0.076mV @1V/mS
SWV頻率：0.001～100KHz
DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s
AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz, 20bit @1KHz
DA分辨率：16bit, 建立時(shí)間：1S
CV的小電位增量：0.020mV
低通濾波器：8段可編程
電流與電位量程：自動(dòng)設(shè)置
接口通訊模式：網(wǎng)口
2、電化學(xué)阻抗功能指標(biāo)
信號(hào)發(fā)生器：
頻率響應(yīng)：10uHz~1MHz
頻率度：0.005%
交流信號(hào)幅值：1mV~2500mV
信號(hào)分辨率：0.1mV RMS
直流偏壓：-10~+10V
DDS輸出阻抗：50
波形：正弦波，三角波，方波
正弦波失真：<1%
掃描方式：對(duì)數(shù)/線性，增加/下降
信號(hào)分析器：
|小積分時(shí)間：10mS 或循環(huán)的長(zhǎng)時(shí)間
|大積分時(shí)間：106個(gè)循環(huán)或者105S
測(cè)量時(shí)間延遲：0~105秒
直流偏置補(bǔ)償：
電位自動(dòng)補(bǔ)償范圍：-10V~+10V
電流補(bǔ)償范圍：-1A~+1A
帶寬調(diào)整(Bandwidth) ：
自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置，共8級(jí)可調(diào)
3、測(cè)量與控制軟件主要功能
兩個(gè)通道獨(dú)|立且具備以下測(cè)試功能：
穩(wěn)態(tài)極化：開(kāi)路電位測(cè)量（OCP）、恒電位極化（I-t曲線)、恒電流極化、動(dòng)電位掃描（TAFEL曲線）、動(dòng)電流掃描（DGP）
暫態(tài)極化：任|意恒電位階梯波、任|意恒電流階梯波、恒電位階躍、恒電流階躍
計(jì)時(shí)分析：計(jì)時(shí)電位法（CP）、計(jì)時(shí)電流法（CA）、計(jì)時(shí)電量法（CC）
伏安分析：線性掃描伏安法（LSV）#、線性循環(huán)伏安法（CV）、階梯循環(huán)伏安法（SCV）#、方波伏安法（SWV）#、差分脈沖伏安法（DPV）#、常規(guī)脈沖伏安法（NPV）#、常規(guī)差分脈沖伏安法（DNPV）#、差分脈沖電流檢測(cè)法（DPA）、雙差分脈沖電流檢測(cè)法（DDPA）、三脈沖電流檢測(cè)法（TPA）、積分脈沖電流檢測(cè)法（IPAD）、交流伏安法（ACV）#、二次諧波交流伏安（SHACV）、傅里葉變換交流伏安【標(biāo)#號(hào)的方法包括相應(yīng)的溶出伏安分析方法】
交流阻抗：電化學(xué)阻抗～電位控制模式、電化學(xué)阻抗（EIS）～時(shí)間掃描、電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描（Mott-Schottky曲線）、電化學(xué)阻抗～電流控制模式
腐蝕測(cè)量：動(dòng)電位再活化法（EPR）、電化學(xué)噪聲（EN）、電偶腐蝕測(cè)量（ZRA）、氫擴(kuò)散測(cè)試
電池測(cè)試：電池充放電測(cè)試、恒電流充放電、恒電位間歇滴定（PITT）、恒電流間歇滴定（GITT）
其他：圓盤(pán)電極測(cè)試以及轉(zhuǎn)速控制、溶液電阻測(cè)量（IR降）、溶液電阻正反饋補(bǔ)償（IR補(bǔ)償）
4、儀器配置
1）儀器主機(jī)1臺(tái)；
2）測(cè)試與分析軟件1套
3）電源線1條
4）網(wǎng)口通訊線1條
5）電極電纜線2條
6）模擬電解池2個(gè)（儀器自檢器件）
