性能優(yōu)勢(shì):
下照式設(shè)計(jì):快速方便的定位各種形狀的樣品,滿足一切測(cè)試所需。
無(wú)損變焦檢測(cè):擁有手動(dòng)變焦功能,可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無(wú)損檢測(cè),凹槽深度范圍0-30mm。
微聚焦射線裝置:可測(cè)試各微小的部件,最小檢測(cè)面積可達(dá)0.002mm2。
高效率的接收器:在檢測(cè)0.01mm2以下的樣品時(shí),幾秒鐘也可達(dá)到穩(wěn)定性。
EFP*算法軟件:可檢測(cè)單鍍層,多鍍層,多元合金,甚至對(duì)于同種元素在不同層的厚度檢測(cè)也能分析,包括輕金屬鍍層,非金屬鍍層,達(dá)克羅,Nip鍍層測(cè)試,包括Ni與P的比例也均可檢測(cè)。
準(zhǔn)直器和濾光片:多種準(zhǔn)直器和濾光片電動(dòng)切換,滿足各種測(cè)試方式的應(yīng)用。
新一代高壓電源和X光管:性能穩(wěn)定可靠,高達(dá)50W的功率實(shí)現(xiàn)更高的測(cè)試效率。
防護(hù)裝置:恒壓恒流快門式光閘,擁有高壓電源緊急自鎖功能,帶給您更安全的防護(hù)。
技術(shù)參數(shù):
測(cè)量元素范圍:CI(17)-U(92)
涂鍍層分析范圍:Li(3)-U(92)
分析軟件:EFP,可同時(shí)分析23層鍍層,24種元素,不同層有相同元素和有機(jī)物厚度也可分析
測(cè)試程式添加:1862條測(cè)試程式免費(fèi)提供,也可編輯新程式
軟件操作:人性化封閉軟件,自動(dòng)提示校正和步驟,避免操作錯(cuò)誤
X射線裝置:升壓發(fā)射一體高分子聚合式W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管
接收器:日本東芝正比計(jì)數(shù)管,窗口面積≥150mm2
射線準(zhǔn)直系統(tǒng):垂直光路交換裝置搭配黃金準(zhǔn)直器
視頻觀測(cè)光路系統(tǒng):垂直光路交換裝置搭載100mm變焦鏡頭
測(cè)樣讀取開啟方式:恒壓恒流快門式光閘
濾光片:鋁、空、鎳
準(zhǔn)直器:?0.05mm;?0.1mm;?0.2mm;?0.5mm;四準(zhǔn)直器任選一種
最近測(cè)距光斑擴(kuò)散度:10%
最小測(cè)量面積:約0.002mm2
測(cè)量距離:具有距離補(bǔ)償功能,可改變測(cè)量距離,能測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離0-30mm
樣品觀察:1/2.5彩色CCD,全局快門,有效像素:1280*960,變焦功能
對(duì)焦方式:高敏感鏡頭(無(wú)需增加其他輔助傳感器),手動(dòng)對(duì)焦
放大倍數(shù):光學(xué)38-46X,數(shù)字放大40-200倍
樣品臺(tái)尺寸:500mm*360mm
樣品可放置區(qū)域:480mm*320mm*205mm(C型開槽設(shè)計(jì),特殊測(cè)試時(shí)可以超出區(qū)域放置樣品)
外部尺寸:550mm*780mm*475mm
電源:交流220V 50HZ
功耗:120W(不包括計(jì)算機(jī))
冷卻系統(tǒng):對(duì)流通道過濾式風(fēng)冷
保養(yǎng)升級(jí)模塊:軟硬件模塊化
環(huán)境要求:使用時(shí)溫度:10℃-40℃ 存儲(chǔ)和運(yùn)輸時(shí)溫度:0℃-50℃ 空氣相對(duì)濕度:≤80%
重量:約48KG
隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片:十二元素片、Ni/Fe、Au/Ni/Cu
其他附件:電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱
標(biāo)簽:   膜厚儀 測(cè)厚儀 一六儀器 一六測(cè)厚儀 一六膜厚儀 X熒光光譜儀 X熒光光譜測(cè)厚儀  X熒光光譜測(cè)厚儀 XAU XTU