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等離子處理技術(shù)

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更新時間：2018-05-15 16:38:56瀏覽次數(shù)：470次

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聯(lián)系人：潘前龍（銷售）

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產(chǎn)品簡介

過程一：高能電子的直接轟擊
過程二：O原子或臭氧的氧化 O2+e→2O
過程三：OH自由基的氧化 H2O+e→OH+H H2O+O→2OH H+O2→OH+O
過程四：分子碎片+氧氣的反應(yīng)

詳細介紹

技術(shù)原理

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。（注：低溫等離子體相對于高溫等離子體而言，屬于常溫運行。）等離子體反應(yīng)區(qū)富含*的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到講解污染物的目的。

■ 雙介質(zhì)阻擋放電示意圖