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深圳海納光學(xué)有限公司
主營產(chǎn)品： 激光護(hù)目鏡，可飽和吸收鏡，衍射光學(xué)元件，光束整形器，太赫茲透鏡，太陽能模擬器，太赫茲相機(jī)，激光測量儀，離軸拋物面鏡，微透鏡陣列 |
公司信息
| 參考價(jià) | 面議 |
- 型號 IMA
- 品牌 其他品牌
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 所在地 國外
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更新時(shí)間：2021-05-17 11:55:06瀏覽次數(shù)：2210
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| 產(chǎn)品類別 | 高光譜儀/高光譜成像儀 | 成像方式 | 三維 |
|---|---|---|---|
| 工作原理 | 其他 | 光譜范圍 | 400~1620nm |
| 光譜分辨率 | 4nm | 使用狀態(tài) | 機(jī)載/地面均可 |
IMA™高光譜顯微成像系統(tǒng)，400~1620nm，光學(xué)分辨率<2nm
加拿大Photon ect生產(chǎn)的 IMA™高光譜成像顯微鏡可提供400 nm~1620 nm范圍內(nèi)的光譜和空間信息, 光學(xué)分辨率<2nm，這種高光譜顯微鏡搭配高效率的分析系統(tǒng)，可快速繪制光致發(fā)光、電致發(fā)光、熒光等圖像，顯示反射率和透射率等參數(shù)，是一種高效率的400~1620nm熒光高光譜成像系統(tǒng)和暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)。
IMA™高光譜顯微成像系統(tǒng)可以用于多路復(fù)用系統(tǒng)，如下圖所示，透明玻璃上的碳納米管顯示出17種假色圖樣，分別對應(yīng)17種不同的波長。
加拿大Photon ect生產(chǎn)的 IMA™高光譜顯微成像系統(tǒng)可提供可見光、近紅外和短波紅外范圍的光譜和空間信息，因此也是一種400~1620nm熒光高光譜成像系統(tǒng)，納米高光譜顯微成像系統(tǒng)的光學(xué)分辨率<2nm。IMA高光譜暗場顯微鏡基于高通濾波器成像技術(shù)，IMA比標(biāo)準(zhǔn)的逐點(diǎn)或基于線掃描的系統(tǒng)更快、更有效，高光譜成像顯微鏡是一種高光譜成像儀和暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)。
IMA納米高光譜顯微成像系統(tǒng)可以不均勻材質(zhì)的缺陷識別。左下圖代表了鈣鈦礦分子用C60作為電子傳輸層，C60電致發(fā)光分裂衍生的準(zhǔn)費(fèi)米能級的*映射；右下圖代表了當(dāng)前傳輸效率的映射。
Photon ect的高光譜暗場顯微鏡可進(jìn)行樣品生長和降解的研究。例如下圖表示鈣鈦礦晶體的光致發(fā)光中心波長在770nm的黑白和假色圖，以及分別對應(yīng)的高光譜數(shù)據(jù)。
IMA高光譜成像儀可用于細(xì)胞標(biāo)記。如下A圖代表60nm的金納米顆粒標(biāo)記的人類乳腺癌細(xì)胞的暗場圖像，B圖代表60nm的金納米顆粒標(biāo)記的人類乳腺癌細(xì)胞在550nm處的圖像，C圖代表乳腺癌細(xì)胞的圖像，D圖代表金納米顆粒在不同區(qū)域的光譜。
加拿大Photon ect的IMA高光譜暗場顯微鏡規(guī)格：
| VIS-SWIR型號 400~1620nm |
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光學(xué)規(guī)格 | VIS 400~1000nm | SWIR 900~1620nm |
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光學(xué)分辨率（FWHM） | < 2 nm | < 4 nm |
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光譜通道 | 連續(xù)可調(diào) |
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空間分辨率 | 亞微米（受顯微鏡物鏡限制） |
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相機(jī) | CCD，EMCCD，sCMOS | Photon ec公司的InGaAs相機(jī) （ZephIR™1.7或Alize™1.7） |
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激發(fā)波長（高達(dá)3個(gè)） | 405，447，532，561，660，730，785，808nm（其他波長可定制） |
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顯微鏡特點(diǎn) | 科研級別的產(chǎn)品，可正放或倒放 |
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波長分辨率精度 | FWHM/8 |
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最大掃描速度 | 單波長150 ms |
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XY方向的行程 | 76mm×52mm（搭配手動臺） |
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Z軸分辨率 | 100nm |
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白光照明 | 透射、反射，汞、鹵素 |
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照明選項(xiàng) | 熒光模式，暗場模式（有性或干性） |
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視頻模式 | 百萬像素?cái)z像頭，且樣品可視化 |
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數(shù)據(jù)處理 | 空間濾波，數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，光譜提取，數(shù)據(jù)歸一化， 光譜標(biāo)定，光譜疊加，中心位置圖 |
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高光譜數(shù)據(jù)格式 | HDF5，FITS |
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軟件配置 | 電腦（Windows 10-64 bits）,PHySpec™控制分析軟件（含電腦） |
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尺寸 | ≈150cm×85cm×82cm |
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重量 | ≈80kg |
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電源配置 | 120VAC/12A/60Hz、230VAC/12A/50Hz |
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附件及可選項(xiàng) | 物鏡放大率 | 10×，20×，40×，50×，60×，100× | |
光譜范圍延伸 | 例如UV選項(xiàng)中FWHM=10nm | ||
電動臺 | 行程100mm×100mm，分辨率22nm | ||
濾光輪 | 最高6個(gè)帶通濾波器 | ||
電致發(fā)光模塊 | |||
第二個(gè)相機(jī)接口 | |||
絕對光度校準(zhǔn) | |||
高分辨率模塊：900nm~1620nm（FWHM<1 nm） | |||
光學(xué)臺建議搭配氣升式防震臺； 900mm×1800mm×60mm（36''×72''×2.4''）或 900mm×900mm×60mm（36''×36''×2.4''）光學(xué)臺緊挨著標(biāo)準(zhǔn)的900mm×900mm×60mm（36''×36''×2.4''）光學(xué)臺 | |||
Photon ect的IMA高光譜顯微成像系統(tǒng)特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)：
-圍包含可見光、近紅外、短波長紅外范圍（400~1620nm）
-快速繪制光致發(fā)光、電致發(fā)光、熒光成像圖像，顯示反射率、透過率參數(shù)
-系統(tǒng)更高效
IMA高光譜成像顯微鏡應(yīng)用：
-生物化學(xué)和納米傳感器（單壁碳納米管的多路復(fù)用或近紅外染料或熒光）
-金納米粒子暗場成像
-鈣鈦礦（CIS）、銅銦鎵硒（CIGS）、硅（Si）、碳化硅（SiC）等光譜和空間分析
-同側(cè)光譜分析
- GaAs準(zhǔn)費(fèi)米能級映射
Photon ect暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)，成像儀
Photon ect暗場高光譜顯微成像系統(tǒng)，成像儀
