淺析復(fù)合式等離子UV光氧凈化設(shè)備的工作方法
復(fù)合式等離子UV光氧凈化設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，進(jìn)口材料制造，防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。UV光氧凈化設(shè)備可*分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì)，并能達(dá)到的脫臭效果，經(jīng)分解后的惡臭氣體，可*達(dá)到無害化排放，絕不產(chǎn)生二次污染，同時達(dá)到消毒殺菌的作用。
UV光氧凈化設(shè)備的清潔原理，還涉及到一種氣相氧化法，這是將高純度的TiCl4高溫下氧化來制備*，反應(yīng)溫度、停留時間及泠卻速度等都將影響氣相氧化法得到的*的粒子形態(tài)。在研究中發(fā)現(xiàn)*隨著停留時間的延長和反應(yīng)溫度升高而增大，金紅石型*含量隨停留時間延長而增加，當(dāng)反應(yīng)溫度達(dá)到1300℃時，金紅石型*含量出現(xiàn)較大。這種生產(chǎn)工藝方法能源消耗大，對設(shè)備腐蝕性強(qiáng)，投資大，并且設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜，材料要求耐高溫、耐腐蝕。
與之相對的還有一種氣相水解法又叫氣溶膠法，既可以使用TiCl4為原料，也可以使用Ti(OR)為原料，其中約含銳鈦礦型70%，金紅石型30%，平均粒徑為30納米，比表面積為每克50平方米，氣相水解法不直接采用水蒸氣水解，而是靠氫氧焰燃燒生產(chǎn)的水蒸氣氣解，反應(yīng)溫度高達(dá)1800℃以上，反應(yīng)中可以通過調(diào)節(jié)溫度，料比，流量，反應(yīng)時間等參數(shù)控制*的粒徑和晶型。但高純度的TiCl4在氫焰中進(jìn)行高溫水解而制得的納米*，很難控制反應(yīng)溫度和壓強(qiáng)，復(fù)合式等離子UV光氧凈化設(shè)備并且投資很大，工藝復(fù)雜。
液相法中的水熱合成法制得的產(chǎn)品純度高，分散性好，晶型好且顆粒大小可控，但該法要經(jīng)歷高溫過程，對設(shè)備的材質(zhì)和穩(wěn)定要求較嚴(yán)。溶膠-凝膠法具有純度高，均勻性強(qiáng)，合成溫度低，反應(yīng)條件易于控制，特別是制備工藝相對簡單，無需特殊貴重儀器，同時具有制得薄膜孔徑小，孔徑分布范圍窄等優(yōu)點(diǎn)。
UV光氧凈化設(shè)備利用高波段UV紫外線光束與*板發(fā)生光觸媒效應(yīng)，有效裂變、氧化污染氣體。惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化器設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高速UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。利用高速UV光束解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DHA)，復(fù)合式等離子UV光氧凈化設(shè)備再通過臭氧進(jìn)行氧化反映，全部達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
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