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分析型高分辨掃描電鏡

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產(chǎn)品型號(hào)Mira3/MIRA3

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更新時(shí)間：2022-03-31 12:42:21瀏覽次數(shù)：76次

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束倫（上海）技術(shù)服務(wù)有限公司

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商鋪產(chǎn)品：194條

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

性能指標(biāo)二次電子像分辨率：1.2nm@1kV,0.6nm@15kV

詳細(xì)介紹

性能指標(biāo)

二次電子像分辨率：1.2nm@1kV, 0.6nm@15kV；
背散射電子像分辨率：1.8nm@15kV；
加速電壓: 200V～30kV，任意連續(xù)可調(diào)；
束流大小: 2pA-200nA；
五種觀察影像模式: 分辨率模式；景深模式；視野模式；大視野模式；Channeling模式，方便尋找樣品位置；
電鏡檢測(cè)器: 高真空二次電子檢測(cè)器(SE)、極靴內(nèi)二次電子檢測(cè)器(In-Beam)、極靴內(nèi)背散射電子檢測(cè)器(In-Beam BSE)、低能背散射電子探測(cè)器(LE-BSE)、樣品室紅外CCD探測(cè)器；
能譜儀：探頭面積80 mm2 SDD；
能量分辨率 125eV（Mn Ka）；
元素檢測(cè)范圍 Be4-Pu94 EBSD：花樣平均角度偏差MAD≤0.5；
EBSD在線標(biāo)定解析速度：640點(diǎn)/秒(8×8 binning)

主要應(yīng)用

主要用于金屬、非金屬、有色金屬、陶瓷等材料的形貌觀察、成分分析、物相分析等

樣品要求

儀器說(shuō)明

MIRA3 LHM型掃描電子顯微鏡具有超高分辨率，該儀器能實(shí)現(xiàn)對(duì)各種固態(tài)樣品表面形貌的觀察，獲得表面形貌的二次電子像、背散射電子像。
MIRA3 LHM掃描電鏡配合超大面積SDD能譜儀和快速型電子背散射衍射EBSD，可應(yīng)用于各種挑戰(zhàn)性的材料的形貌觀察、元素組成和分布測(cè)試、結(jié)構(gòu)和取向分析。如金屬、納米顆粒和粉體、納米管和納米線等各種納米材料、多孔物質(zhì)(如硅、羥基磷灰石)、塑料電子器件、玻璃基體材料、有機(jī)材料、高分子物質(zhì)、金剛石薄膜、半導(dǎo)體截面、晶體材料、生物樣品、各類(lèi)薄膜材料和截面等。

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