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更新時(shí)間：2022-11-26 12:54:32瀏覽次數(shù)：51次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項(xiàng)目概述脫硝噴氨過程需要準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)氨逃逸濃度，該款脫硝氨逃逸監(jiān)測(cè)產(chǎn)品是大方科技近十年氨逃逸監(jiān)測(cè)的經(jīng)典款，擁有上千套成功應(yīng)用案例
激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)
脫硝噴氨過程需要準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)氨逃逸濃度，該款脫硝氨逃逸監(jiān)測(cè)產(chǎn)品是大方科技近十年氨逃逸監(jiān)測(cè)的經(jīng)典款，擁有上千套成功應(yīng)用案例。該產(chǎn)品采用傳統(tǒng)抽取式技術(shù)路線結(jié)合大方科技的多次反射技術(shù)，具有可靠性高、安裝維護(hù)方便，測(cè)量精度高等特點(diǎn)。
系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)進(jìn)行NH3的測(cè)量，以可調(diào)諧激光器作為光源，發(fā)射出特定波長(zhǎng)激光束，穿過待測(cè)氣體，通過分析被測(cè)氣體中NH3分子吸收導(dǎo)致的激光光強(qiáng)衰減，根據(jù)朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強(qiáng)成比例關(guān)系，從而實(shí)現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測(cè)待測(cè)氣體中NH3濃度。因?yàn)榧す庾V寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)出待測(cè)氣體吸收的特定波長(zhǎng)，使得測(cè)量不受測(cè)量環(huán)境中其它成分的干擾，相比其它復(fù)合光源而言，具有的測(cè)量精度。
朗伯比爾定律：
其中光譜吸收系數(shù)：
根據(jù)脫硝氨逃逸測(cè)量點(diǎn)高溫、高濕、高粉塵、震動(dòng)等工況特點(diǎn)以及測(cè)量濃度低、測(cè)量精度要求高等要求，產(chǎn)品采用大方科技經(jīng)典的抽取+多反長(zhǎng)光程測(cè)量技術(shù)，煙氣通過采樣系統(tǒng)取樣后經(jīng)伴熱管線進(jìn)入分析單元測(cè)量分析。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道震動(dòng)等對(duì)測(cè)量的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測(cè)量光程可達(dá)30米，可大大提高測(cè)量精度。
四、系統(tǒng)特點(diǎn)
1 采用TDLAS技術(shù)，不受背景氣體影響
系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進(jìn)行氣體的測(cè)量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)射待測(cè)氣體吸收的特定波長(zhǎng)，使測(cè)量不受測(cè)量環(huán)境中其它成分的干擾。
2 系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要
系統(tǒng)采用波長(zhǎng)調(diào)制光譜技術(shù)，并且進(jìn)行動(dòng)態(tài)的補(bǔ)償，實(shí)時(shí)鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。
3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失
抽取式測(cè)量的分析方式采用全程高溫伴熱，確保無氨氣吸附損失。
4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測(cè)量精度
系統(tǒng)采用多次反射測(cè)量池技術(shù)，光程可達(dá)30米，極大地提高了測(cè)量精度。
5 可靠性高，運(yùn)行穩(wěn)定
分析系統(tǒng)無任何運(yùn)動(dòng)部件，極大地增強(qiáng)了可靠性。分析儀采兩級(jí)菜單操作，人機(jī)交互界面友好，根據(jù)界面提示可不需要說明書就能掌握儀器的基本操作。自動(dòng)反吹，可拆卸濾芯，維護(hù)方便，運(yùn)行費(fèi)用低。
6 安裝調(diào)試靈活
分析系統(tǒng)適合安裝在不同工業(yè)環(huán)境下，模塊化設(shè)計(jì)，安裝方便，開機(jī)預(yù)熱后便可正常運(yùn)行無需進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)光路調(diào)試。
7 技術(shù)，便于維護(hù)光學(xué)器件
大方科技*的樣氣室設(shè)計(jì)，包含維護(hù)窗口，可以在不影響光路的情況下，對(duì)污染的光學(xué)器件進(jìn)行清潔，無需重新調(diào)節(jié)光路，讓維護(hù)更加快速方便。
8 儀表自檢及自恢復(fù)功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復(fù)功能，軟件可以自動(dòng)探測(cè)分析儀的測(cè)量異常狀態(tài)，可以通過自檢及自恢復(fù)，使分析儀重新恢復(fù)測(cè)量工作狀態(tài)。
9 自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)
大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年，針對(duì)國(guó)內(nèi)應(yīng)用現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)測(cè)難點(diǎn)進(jìn)行專業(yè)和定制化開發(fā)，擁有數(shù)十項(xiàng)發(fā)明和軟件著作權(quán)，對(duì)產(chǎn)品擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。
五、典型應(yīng)用：
電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業(yè)鍋爐等企業(yè)脫硝氨逃逸監(jiān)測(cè)；
煉焦企業(yè)脫硝氨逃逸監(jiān)測(cè)；
化工廠脫硝氨逃逸監(jiān)測(cè)；
氨法脫硫氨逃逸監(jiān)測(cè)。
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