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雙溫區(qū)滑軌式PECVD系統(tǒng)BTF-1200C-II-500A 實驗室臭氧發(fā)生機(jī)

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更新時間:2023-06-01 09:12:12瀏覽次數(shù):232次

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要特點智能PECVD設(shè)備是目前型的一款設(shè)備,將所有的控制部分集為一體,此款設(shè)備是我司在2013年獲得的設(shè)備

要特點

智能PECVD設(shè)備是目前型的一款設(shè)備,將所有的控制部分集為一體,此款設(shè)備是我司在2013年獲得的設(shè)備。高溫真空加熱爐溫度控制系統(tǒng)采用經(jīng)典的閉環(huán)負(fù)反饋控制系統(tǒng),控溫儀表選用智能型程序溫度調(diào)節(jié)儀表控溫,電力調(diào)制器控制;負(fù)載采用小電壓大電流控制,從而大大提高了發(fā)熱元件的壽命,測溫元件采用K型熱偶。采用單回路溫控儀能夠自整定PID 參數(shù),無須操作人員的干預(yù),可自行根據(jù)不同溫度曲線的升、降溫要求調(diào)整輸出信號,同時系統(tǒng)設(shè)置了超溫、欠溫、斷偶報警保護(hù)功能,大大降低了對操作人員經(jīng)驗的要求,關(guān)鍵電氣元件采用優(yōu)質(zhì)的進(jìn)口產(chǎn)品,做到高性能、免維護(hù),提高了設(shè)備質(zhì)量的可靠性。適用范圍寬:金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復(fù)合薄膜,連續(xù)生長各種薄膜等。增加功能容易,可擴(kuò)展等離子清洗刻蝕等功能。

1.薄膜沉積速率高:射頻輝光技術(shù),大大的提高了薄膜的沉積速率,沉積速率可達(dá)10?/S;
2.大面積均勻性高:采用了*的多點射頻饋入技術(shù),特殊氣路分布和加熱技術(shù)等,使得薄膜均勻性指標(biāo)達(dá)到8%;
3. 一致性高:用半導(dǎo)體行業(yè)的*設(shè)計理念,使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%;
4. 工藝穩(wěn)定性高:高度穩(wěn)定的設(shè)備保證了工藝的連續(xù)和穩(wěn)定;

5.號:ZL.0 (產(chǎn)品,防偽必究)。

加熱系統(tǒng)

Z高溫度

1200℃(1 hour)

使用溫度

1100

爐膛有效尺寸

Φ60*1650mm(爐管直徑可根據(jù)實際需要定制。)

爐膛材料

氧化鋁、高溫纖維制品

熱電偶類型

K型熱電偶

控溫精度

±1

控溫方式

?30段可編程控溫,PID參數(shù)自整定,

?操作界面為10"工控電腦,內(nèi)置PLC控制程序,

?可將溫控系統(tǒng)、滑軌爐滑動(時間和距離)設(shè)定為程序控制。

加熱長度

200+200mm

恒溫長度

200mm

加熱原件

電阻絲

供電電源

單相,220V,50Hz

額定功率

3KW

PE射頻電源

信號頻率

13.56 MHz±0.005%

功率輸出范圍

500W

Z大反射功率

500W

射頻輸出接口

50 Ω, N-type, female

功率穩(wěn)定度

±0.1%

諧波分量

≤-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V 頻率50/60HZ

整機(jī)效率

>=70%

功率因素

>=90%

冷卻方式

強(qiáng)制風(fēng)冷

四路質(zhì)子流量控制系統(tǒng)

外形尺寸

600x600x650mm

連接頭類型

雙卡套不銹鋼接頭

標(biāo)準(zhǔn)量程(N2)

50sccm,100sccm、200sccm;500sccm

(可根據(jù)用戶要求定制)

準(zhǔn)確度

±1.5%

線性

±0.51.5%

重復(fù)精度

±0.2%

響應(yīng)時間

氣特性:14 Sec,電特性:10 Sec

工作壓差范圍

0.10.5 MPa

Z大壓力

3MPa

接口

Φ6,1/4''

顯示

4位數(shù)字顯示

工作環(huán)境溫度

5~45高純氣體

壓力真空表

0.10.15 MPa, 0.01 MPa/

截止閥

Φ6

內(nèi)外雙拋不銹鋼管

Φ6

低真空機(jī)組VAU-02

空氣相對濕度

85%

工作環(huán)境

5℃~40

工作電電壓

220V±10% 50~60HZ

功率

1千瓦

抽氣速率

10m3/h

極限真空

5X10-1Pa

工作壓力范圍

1.01325X105~1.33X10-2Pa

耐壓值

0.03MPa

容油量

1.1L

進(jìn)氣口口徑

KF25

排氣口口徑

KF25

噪音

50dB

外形尺寸

600×600×600mm

連接方式

采用波紋管,手動擋板閥與波紋管相連

電阻真空計參數(shù):

配用規(guī)管:

ZJ-52T電阻規(guī),

測量范圍:

10 5 ~10 -1 Pa

測量路數(shù):

1路

控制范圍:

10 3 5×10 -1 Pa,

控制方式:

繼電器觸點輸出,負(fù)載能力 AC220V/3A (DC28V/3A)無感負(fù)載,

電源:

90-260V/50Hz或220V ± 10% 50Hz,

功耗:

20W


智能型雙溫區(qū)等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(型號:BTF-1200C-II-A

主要特點:一、此設(shè)備的高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經(jīng)典的閉環(huán)負(fù)反饋控

三溫區(qū)智能型等離子體化學(xué)沉積系統(tǒng)(BTF-1200C-III-500A

主要特點:此款智能型等離子體增強(qiáng)化學(xué)沉積系統(tǒng)的高溫真空爐加熱腔體采用進(jìn)

連續(xù)進(jìn)出料等離子體增強(qiáng)回轉(zhuǎn)設(shè)備-BTF-1200C-RP-PECVD

主要特點該款設(shè)備是全自動Plasma增強(qiáng)CVD系統(tǒng)(PECVD)

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