主要特點(diǎn)

復(fù)合氧化物氫分離膜制備用CVD設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)在多孔氧化鋁陶瓷管和陶瓷片上化學(xué)沉積上氧化物（SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂）和復(fù)合氧化物（Al₂O₃-SiO₂、SiO₂-TiO₂、SiO₂- ZrO₂）氫分離膜。

設(shè)備結(jié)構(gòu)

1） 主體加熱為三段加熱系統(tǒng)，Z高使用溫度為1000℃；

2） 3個(gè)液態(tài)源加熱蒸發(fā)鼓泡器，Z高溫度300℃，獨(dú)立控溫。

3） 3路進(jìn)氣系統(tǒng)，分別為氮?dú)?、氬氣和氫氣，皆可直接進(jìn)入混氣室載進(jìn)入真空腔體，且流量分別可控，流量計(jì)控制精度為±1.5%F.S。另外氮?dú)庾鳛榇祾邭?，分別通過流量計(jì)并列進(jìn)入三個(gè)液態(tài)源后再進(jìn)入混氣室，三路均配有單獨(dú)閥門控制。

4） 陶瓷盲管長(zhǎng)620mm，外徑12mm，內(nèi)徑9mm。距離開口端250mm至350mm處，為孔徑0.2μm的沉積段，其余管外壁已釉封；

5） 陶瓷管開端在石英管一側(cè)固定并進(jìn)行陶瓷管的內(nèi)外密封（見示意圖1）。需要固定時(shí)間間隔，從陶瓷管內(nèi)進(jìn)行抽氣，滿足透出載氣的氣袋收集和流量檢測(cè)兩種功能，并實(shí)現(xiàn)兩種功能間的切換。

6） 陶瓷片樣品直徑30mm，厚度3mm。3個(gè)樣品臺(tái)，每個(gè)樣品臺(tái)上可同時(shí)放置3片陶瓷片樣品。

7） 設(shè)備空間盡量小。

8） 后端真空連接系統(tǒng).

技術(shù)參數(shù)