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電子行業(yè)超純水工程超純水設(shè)備

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)介隨著經(jīng)濟(jì)的迅速發(fā)展，水污染日益嚴(yán)重

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簡(jiǎn)介

隨著經(jīng)濟(jì)的迅速發(fā)展，水污染日益嚴(yán)重。水質(zhì)下降，給電子行業(yè)的生產(chǎn)帶來(lái)了很大的困擾，電子行業(yè)生產(chǎn)用水很難達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。電子行業(yè)一般研制的產(chǎn)品屬于比較精密的設(shè)備，所以在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)水質(zhì)的要求*，如果水質(zhì)不符合生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)，直接影響產(chǎn)品質(zhì)量，阻礙了電子行業(yè)的發(fā)展。所以電子行業(yè)超純水的制取非常的重要。

基本工藝流程:

原水→UF給水泵→袋式過(guò)濾器→超濾裝置→超濾水箱→一級(jí)RO給水泵→保安過(guò)濾器→一級(jí)RO高壓泵→一級(jí)反滲透設(shè)備→一級(jí)RO水箱→二級(jí)RO高壓泵→二級(jí)反滲透設(shè)備→二級(jí)RO水箱→CEDI增壓泵→TOC分解器→膜脫氣裝置→CEDI電去離子模塊→氮封純水箱→純水泵→TOC分解器→膜脫氣裝置→一級(jí)拋光混床→二級(jí)拋光混床→微過(guò)濾器→超純水增壓泵→微過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

工藝說(shuō)明

超濾可降低原水的SDI值、濁度、TOC值，為RO提供穩(wěn)定、優(yōu)良的進(jìn)水；二級(jí)反滲透能夠有效去除水中的溶解鹽類、膠體、微生物、有機(jī)物等（去除率高達(dá)97%-98%），可確保產(chǎn)水水質(zhì)，延長(zhǎng)CEDI的使用壽命；TOC分解器是利用紫外線將水中的碳水化合物打斷，在足夠的照射劑量照射下，將絕大部分的有機(jī)物分解成H₂O和CO₂；膜脫氣裝置可去除二氧化碳及氧氣；CEDI系統(tǒng)通過(guò)陽(yáng)陰離子膜對(duì)陽(yáng)陰離子的選擇透過(guò)作用以及離子交換樹(shù)脂對(duì)水中離子交換作用，在電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過(guò)水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)裝填樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生；二級(jí)拋光混床對(duì)純水進(jìn)一步精制，保證水質(zhì)符合電子行業(yè)水質(zhì)要求。

關(guān)鍵詞：給水泵袋式過(guò)濾器高壓泵反滲透設(shè)備增壓泵

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