optogama閃爍晶體，衰減時(shí)間快，穩(wěn)定性高
optogama 提供高質(zhì)量的閃爍晶體，可吸收伽馬射線(xiàn)或中子等高能輻射，并將該能量轉(zhuǎn)化為可見(jiàn)光子的短脈沖。這些晶體具有密度高、運(yùn)行速度快、輻射硬度大、性?xún)r(jià)比高等特點(diǎn)。閃爍晶體可用于科研、醫(yī)療和工業(yè)應(yīng)用，可根據(jù)要求提供定制解決方案。
此外，閃爍晶體的訂貨數(shù)量是2件。
Ce:LYSO 晶體
Lu?SiO?: Ce是一種相對(duì)較新的閃爍晶體，因其速度快、機(jī)械強(qiáng)度高和耐化學(xué)性好而聞名。
主要特點(diǎn)：
衰減時(shí)間快，光輸出高，機(jī)械阻力和穩(wěn)定性，高密度和抗輻射硬度
應(yīng)用：
斷層掃描系統(tǒng) (PET)，醫(yī)療XCT，高能物理，輻射探測(cè)器，石油測(cè)井，安全掃描，伽馬光譜
光譜和熱機(jī)械性能：
| 密度（g/cm 3） | 7.2 |
| 熔點(diǎn) (°C) | 2050 |
| 硬度（莫氏） | 5.8 |
| 衰減時(shí)間 (ns) | 64 |
| 有效原子序數(shù) | 40-45 |
| 發(fā)射峰(nm) | 420 |
| 光產(chǎn)率（光子/MeV） | 29000 |
| 光輸出（至 NaI: Tl） | ~85% |
| 折射率 | 1.82 |
| 吸濕性 | 無(wú) |
參數(shù)規(guī)格：
| 尺寸 | 陣列 | 長(zhǎng)度 | 鍍膜 | 面尺寸公差 | 長(zhǎng)度公差 | SKU |
| 4x4 mm | 16 | / | 無(wú) | +/-0.15 | +/-0.15 | 19587 |
| 8 x 8 mm | 64 | / | 無(wú) | +/-0.15 | +/-0.15 | 19588 |
| 16 x16 mm | 256 | / | 無(wú) | +/-0.15 | +/-0.15 | 19589 |
Ce:YAG 晶體
Ce:YAG晶體具有優(yōu)異的機(jī)械性能和耐化學(xué)性，可用于環(huán)境的檢測(cè)，并能用薄型屏幕進(jìn)行生產(chǎn)。它還具有很高的發(fā)光效率，其峰值發(fā)射（550nm）可以與硅光電二極管探測(cè)器器件有效耦合。
主要特點(diǎn)
機(jī)械阻力和穩(wěn)定性，良好的導(dǎo)熱性，衰減時(shí)間快，不吸濕
應(yīng)用：
低能輻射和阿爾法粒子檢測(cè)，電子和X射線(xiàn)成像屏幕，β和X射線(xiàn)計(jì)數(shù)
光譜和熱機(jī)械性能：
| 密度（g/cm 3） | 4.56 |
| 熔點(diǎn) (°C) | 1970 |
| 硬度（莫氏） | 8.5 |
| 衰減時(shí)間 (ns) | 70 |
| 有效原子序數(shù) | 32 |
| 發(fā)射峰(nm) | 550 |
| 光產(chǎn)率（光子/MeV） | 15000 |
| 光輸出（至 NaI: Tl） | 40% |
| 折射率 | 1.82 |
| 吸濕性 | 無(wú) |
| 能量分辨率 | <8% |
參數(shù)規(guī)格：
| 尺寸 | 厚度 | 鍍膜 | 表面平整度 | 表面質(zhì)量 | 面尺寸公差 | 長(zhǎng)度公差 | SKU |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 無(wú) | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19562 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 無(wú) | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19563 |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 無(wú) | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19564 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 無(wú) | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19565 |
Ce:YAP晶體
Ce:YAP閃爍體是一種快速、機(jī)械強(qiáng)度高、耐化學(xué)腐蝕的閃爍晶體。其高機(jī)械性能使其能夠進(jìn)行精密加工，并且可以在晶體的入口表面直接沉積一層非常薄的鋁層來(lái)制作入口窗口。
主要特點(diǎn)：
機(jī)械阻力和穩(wěn)定性，衰減時(shí)間快，不吸濕
應(yīng)用：
伽瑪和 X 射線(xiàn)計(jì)數(shù)，電子顯微鏡，X 射線(xiàn)成像屏幕，斷層掃描系統(tǒng)；
光譜和熱機(jī)械性能：
| 密度（g/cm 3） | 5.4 |
| 熔點(diǎn) (°C) | 1875 |
| 硬度（莫氏） | 8.5 |
| 衰減時(shí)間 (ns) | 25 |
| 發(fā)射峰(nm) | 370 |
| 光產(chǎn)率（光子/MeV） | 25000 |
| 光輸出（至 NaI: Tl） | 70% |
| 折射率 | 1.96 |
| 吸濕性 | 無(wú) |
| 能量分辨率 | <5% |
參數(shù)規(guī)格：
| 尺寸 | 厚度 | 鍍膜 | 表面平整度 | 表面質(zhì)量 | 面尺寸公差 | 長(zhǎng)度公差 | SKU |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 無(wú) | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19582 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 無(wú) | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19586 |
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