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himax紫外線照射裝置 UV燈汞燈UH102 & UH104的介紹

該設(shè)備去除有機(jī)化合物污漬，主要是油性污染物。
濕式清潔去除灰塵和污垢后，使用本設(shè)備作為畫(huà)龍點(diǎn)睛，
清潔效果更佳。

環(huán)保，環(huán)保清潔劑

144AX 型從平面汞燈發(fā)出紫外線。
該照射能量和產(chǎn)生的臭氧用于分解和氧化有機(jī)化合物以去除污垢。
它不會(huì)因熱量或摩擦而損壞工作表面，并有效清潔。無(wú)需擔(dān)心污垢和灰塵的再沉積，或有機(jī)化合物的污染。

比濕洗具有更高的去污力

該設(shè)備擁有比濕式清潔更有效的清潔能力。（*參照下級(jí)處理?xiàng)l件表。）
如果在用超純水沖洗前加上輕微清潔，可以去除油基污染膜，也可以通過(guò)沖洗去除細(xì)小的附著灰塵。

【什么是接觸角？]

將試劑水滴在清潔過(guò)的表面上并評(píng)估濕度。在紫外線照射約 30 至 60 秒后，接觸角顯著下降。
4度的接觸角意味著有機(jī)化合物膜小于單個(gè)分子。

除了半導(dǎo)體領(lǐng)域，它還可以應(yīng)用于各種清潔應(yīng)用。

■ 可用于電子材料、液晶、汽車(chē)、家電、ETC等。

■ 陶瓷基板、液晶玻璃、陰極射線管、磁頭、鉻膜等的附著力提高和表面改性。

■ 硅片、 GaSa晶圓、透鏡、鏡子、太陽(yáng) 電池面板等的

清洗、密合性的提高 ■ 切割膠帶密合性的降低（*部分類(lèi)型的密合性得到改善。）

■ 抗蝕劑硬化、結(jié)冰、殘留物去除的促進(jìn)

■ FPD/PDP的清掃

■ 增加wafer氧化層

■ EPROM和存儲(chǔ)器的中和

■ 各種材料的清洗、附著力改善、氧化增強(qiáng)、固化等■ 生化

滅菌等

可選功能

■ Suprasil UV Lamp（合成石英玻璃紫外燈）
　　　短片的透過(guò)率波長(zhǎng)184.9nm的紫外線對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)燈來(lái)說(shuō)是65%，但是這款燈
　　　將90%的臭氧產(chǎn)生率提高了一倍，并且縮短了清洗時(shí)間。

■ 臭氧消除裝置適用于希望避免排氣管排放臭氧的人員（

與排氣裝置組合使用）。
　　　與臭氧消除器組合使用時(shí)，無(wú)需擔(dān)心臭氧氣味。

■ 多種托盤(pán)尺寸可供選擇。（單位：mm）（參考下方托盤(pán)尺寸表。）

■ 紫外線照度計(jì)輸入：AC100V 12A

加工條件	接觸角
未經(jīng)處理的玻璃板	26
洗滌劑→自來(lái)水→碳?xì)淙軇?/span>	39
洗滌劑→自來(lái)水→純凈水	17
洗滌劑 → 自來(lái)水 → IPA *	14
臭氧水	10度以下
洗滌劑→自來(lái)水→等離子	五
洗滌劑 → 自來(lái)水 → UVO 清潔劑	四