可以安裝各種輔助監(jiān)測(cè)設(shè)備:pH 計(jì)、導(dǎo)管測(cè)量?jī)x、氧化還原計(jì)、臨界監(jiān)測(cè)探頭等
可以配套 Julabo-Chemtron PLC 中*控制系統(tǒng)使用
整套裝置達(dá)到安全標(biāo)準(zhǔn),具有耐溶劑的特點(diǎn),在實(shí)驗(yàn)室空間使用時(shí)具有靈活性 > 標(biāo)配防濺盤
提供無(wú)死體積底閥的 ( < 22L ) 和帶夾套帶底閥的(3L, 5L, 12L 三種體積)
主要結(jié)構(gòu):上攪拌,下攪拌兩種形式。
上密封法蘭,
上支架固定架
電氣控制柜
反應(yīng)釜主體
攪拌系統(tǒng)
整體固定平臺(tái)
球型,軸向攪拌,釜體內(nèi)壁拋光
內(nèi)壁物料接觸面均為精拋光
材質(zhì):904L(均質(zhì)),316L,哈式合金等
設(shè)計(jì)壓力:-0.098MPa~6Mpa
使用壓力:-0.09Mpa~4.5Mpa
設(shè)計(jì)總體積:29L
設(shè)計(jì)溫度:-10℃~200℃
使用溫度:50℃~150℃
夾套循環(huán)壓力1.2MPa
有下放料閥
顯示、控制釜內(nèi)溫度;顯示控制加熱器溫度;顯示、控制反應(yīng)釜攪拌轉(zhuǎn)速;顯示、控制加熱工作時(shí)間;
釜內(nèi)溫度控制與冷媒(導(dǎo)熱油)流量聯(lián)動(dòng)PID串級(jí)模糊控制,保證釜內(nèi)控溫精度±1℃。
帶純水保護(hù)磁耦機(jī)械雙重密封下攪拌機(jī)構(gòu)控制;
裝置主要參數(shù)及技術(shù)說(shuō)明
反應(yīng)釜容積:5000ml ;材質(zhì):316L/904L;
釜蓋開口:進(jìn)氣口*1、排氣口*1、排料口*1、壓力表口*1(含安全閥)、攪拌口*1、測(cè)溫口*1;
反應(yīng)釜打開方式:法蘭式;反應(yīng)釜 密封形式:機(jī)械硬密封
工作壓力:5MPa;設(shè)計(jì)壓力:6MPa;
工作溫度:140℃;設(shè)計(jì)溫度:-40-200℃;
控溫方式:反應(yīng)釜程序控溫,可分段程序升溫
加熱方式:導(dǎo)熱油加熱;密封方式:機(jī)械密封+純水/原料保護(hù)
攪拌裝置
攪拌電機(jī):高扭矩高速攪拌攪拌速度:最*空載3000RPM,最*扭矩5Nm
機(jī)械密封攪拌結(jié)構(gòu)攪拌槳:高剪切槳型/分散盤
框架結(jié)構(gòu)
垂直框架,釜頸處為法蘭耐壓連接密封
釜體電動(dòng)升降
PLC軟件控制