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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

鄭州科佳電爐有限公司


經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:206條

所在地區(qū):河南鄭州市

聯(lián)系人:陳科 (經(jīng)理)

  • 高溫化學氣相沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:該高溫化學氣相沉積系統(tǒng)的工作溫度為300℃至1600℃,配備真空泵,氣體混合裝置

    產(chǎn)品型號:PT-CVD-1700-60*300-F3所在地:更新時間:2023-02-18 在線留言

  • 1200雙溫區(qū)觸摸屏CVD系統(tǒng)

    詳細摘要: 簡介:KJ-T1200CVD是一種管式爐,配備60mm直徑氧化鋁管、真空泵和四通道質(zhì)量流量計+一個浮子流量計氣體流動系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200所在地:更新時間:2023-02-18 在線留言

  • 1200℃PECVD系統(tǒng)

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜

    產(chǎn)品型號:KJ-PECVD-1200-50*300-F3所在地:更新時間:2022-09-02 在線留言

  • 卷對卷PECVD設備

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備(PECVD),并加裝了收放卷裝置

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-JCY所在地:更新時間:2022-09-02 在線留言

  • 1600 CVD 系統(tǒng)

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-CVD是一種分體式管式爐,配備60mm直徑的石英管、真空泵和四通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號:KJ-T1600 CVD所在地:更新時間:2022-09-02 在線留言

  • PECVD系統(tǒng)

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成,適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時可實現(xiàn)TEOS...

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-PE所在地:更新時間:2022-09-02 在線留言

  • 1200度CVD設備

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200CVD是一種管式爐,配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S440所在地:更新時間:2022-09-02 在線留言

  • 混氣PECVD設備

    詳細摘要: 產(chǎn)品描述:KJ-T1200PECVD是一種PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)的管式爐系統(tǒng),它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空...

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200 PECVD所在地:更新時間:2022-09-02 在線留言

  • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術(shù)是借助于輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學反應,從而實現(xiàn)薄膜技術(shù)生長的一種系的制備技術(shù)

    產(chǎn)品型號:KJ-PECVD-D1所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 雙爐體CVD設備

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:該雙爐體CVD系統(tǒng)為定制款,適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實驗

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-W2所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 三溫區(qū)CVD設備

    詳細摘要: 產(chǎn)品特點:1、控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單

    產(chǎn)品型號:KJ-OTF-1700-F5所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 3通道CVD設備

    詳細摘要: 簡單介紹:KJ-T1600CVD是一種管式爐,具有80mm直徑的氧化鋁管和三通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號:KJ-T1600 -3M所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 石墨烯生長爐PECVD設備

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制備機是由KJ-T1200開啟式滑軌管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計氣路系統(tǒng)、等離子電源系統(tǒng)組成

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S60LC-H2所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 1200度三溫區(qū)CVD管式爐

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-1200T-S60LK3-3FZ型CVD管式爐由KJ-T1200管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成,溫度可以達到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三...

    產(chǎn)品型號:KJ-1200T-S60LK3-3FZ所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 1200℃高溫真空CVD設備

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 混氣管式PECVD系統(tǒng)

    詳細摘要: KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統(tǒng),由KJ-T1200單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 1200℃石墨烯生長爐

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型石墨烯生長爐由KJ-1200T管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成,溫度可以達到1200度,可以是單...

    產(chǎn)品型號:KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 四路高溫真空CVD設備

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:KJ-T1200-S60K-4C型四路高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成,溫度可以達到1200度,極限真...

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S60K-4C所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 箱式化學氣相沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: 產(chǎn)品介紹:液壓鐘罩氣氛爐采用爐體和智能控制一體化設計,整個爐體美觀、大方

    產(chǎn)品型號:KJ-M1200(1400/1700)-Z所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

  • 旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng)

    詳細摘要: 產(chǎn)品用途:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜

    產(chǎn)品型號:KJ-T1200-S80-DZPECVD-R所在地:更新時間:2022-09-01 在線留言

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