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更新時(shí)間：2022-09-22 11:51:10瀏覽次數(shù)：161次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 環(huán)保在線208HR 高分辨率鍍膜儀（離子濺射儀）208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。場發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí)，樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到最小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。 分類： 電鏡制樣設(shè)備, 鍍膜儀 標(biāo)簽： 離子濺射儀, 鍍膜儀, ......
描述
208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí)，樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到最小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力，可以對膜層的均勻性和一致性進(jìn)行精確控制，并減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制，它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的要求。
場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：
208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵，標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
一、主要特性
· 可選擇多種鍍膜材料
· 精確的膜厚控制
· 樣品臺控制靈活：可對樣品臺進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。
· 多個(gè)樣品座：提供4個(gè)樣品座，每個(gè)樣品座直徑32mm，可裝載多達(dá)6個(gè)小樣品座。
· 樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）
· 寬范圍的操作壓力：獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為0.2 – 0.005 mbar。
· 緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)
· 操作容易
二、技術(shù)參數(shù)
| 濺射系統(tǒng) | |
| 鍍膜頭 | 低電壓平面磁控管 靶材更換快速 環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩 靶材調(diào)節(jié)遮擋 |
| 靶材 | Cr, Pt/Pd (標(biāo)配) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir , Ti（選配） |
| 鍍膜控制 | 微處理器控制 安全互鎖 電流控制與真空度無關(guān) 數(shù)字化可選電流（20，40，60 和 80mA） |
| 樣品室大小 | 直徑150mm 高度165 – 250mm |
| 樣品臺 | 非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)，并可手動(dòng)傾斜0-90° 轉(zhuǎn)動(dòng)速度可調(diào) 晶體頭 4個(gè)樣品臺 |
| 模擬計(jì)量 | 真空 Atm – .001mb 電流 0-100mA |
| 控制方法 | 自動(dòng)氣體凈化和泄氣功能 自動(dòng)處理排序 帶有“暫停"功能的數(shù)字計(jì)時(shí)器 自動(dòng)放氣 |
| 膜厚控制 | MTM-20高分辨膜厚控制儀 |
| 真空系統(tǒng) | |
| 結(jié)構(gòu) | 分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合， 代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵（選配） |
| 抽真空速度 | 0.1mb 下300 l/min |
| 抽真空時(shí)間 | 1 mbar 至 1 x 10-3mbar |
| 極限真空 | 1 x 10-5mbar |
| 桌上型系統(tǒng) | 旋葉泵置于抗震臺上，全金屬真空耦合系統(tǒng) |
| 膜厚測控儀 | |
| MTM-20 | 基于微處理器，4位數(shù)字顯示，復(fù)位按鈕， 6MHz晶體（具有壽命檢查功能），5次/s的更新速率 |
| 膜厚范圍 | 0.0 – 999.9nm |
| 分辨率 | 優(yōu)于 0.1nm |
| 密度范圍 | 0.50 – 30.00gm/cm3 |
| 修正系數(shù)范圍 | 0.25 – 8.00 |
| 鍍膜終止范圍 | 膜厚0 – 999.9nm |
| 系統(tǒng)要求 | |
| 電氣 | 100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz |
| 功率 | 550VA（） |
| 氬氣 | 最小純度99.995% 調(diào)節(jié)壓力 5 – 6 psi (0.4 bar) 6.0mm ID連接軟管 |
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